Hochentwickeltes aufrechtes metallographisches Mikroskop
Das hochentwickelte invertierte metallografische Mikroskop PMM-3LIC (Hell- und Dunkelfeld) wurde entwickelt, um den Anforderungen der Halbleiterindustrie, der Siliziumwafer-Herstellung, der Informationstechnologiebranche sowie der metallurgischen Industrie gerecht zu werden. Als fortschrittliches metallografisches Mikroskop ermöglicht es den Anwendern, seine herausragenden Leistungsmerkmale zu erleben und findet breite Anwendung bei der Untersuchung von Schmierstoffen, Halbleitern, FPDs, Schaltkreisverpackungen, Schaltkreisunterlagen, Werkstoffen, Guss-, Metall- und Keramikbauteilen sowie Präzisionsformen.